Samsung и TSMC, ведущие производители чипов, объявили о своих планах использовать литографические машины ASML с высоким NA, которые необходимы для производства передовых чипов. Samsung намерена начать использовать эти машины для производства DRAM к 2028 году, в то время как TSMC будет применять их для производства передовых чипов, что обусловлено сложностями архитектур транзисторов ИИ.
Машины с высоким NA, стоимостью около 400 миллионов долларов каждая, должны повысить эффективность и продлить дорожную карту масштабирования DRAM. Акции ASML за последний год увеличились на 120%, и аналитики Barclays рассматривают это обязательство как положительный индикатор перспектив роста ASML.
Они отметили, что объявления обеспечивают большую видимость в отношении внедрения этих машин, что было предметом обсуждения. Кроме того, обе компании будут сотрудничать с ASML в области разработки технологии фотомасок следующего поколения размером 12 дюймов, что имеет решающее значение для производства чипов.
Этот переход от текущего формата 6 дюймов направлен на повышение производительности и снижение производственных затрат. ASML не уточнила прогнозы продаж для машин с высоким NA, но планирует увеличить свою мощность EUV примерно на 30% к 2027 году, что указывает на высокий спрос на рынке.